Prosessen spesialgassen brukt i TFT-LCD produksjonsprosessen CVD avsetningsprosess: silan (S1H4), ammoniakk (NH3), fosfor (pH3), latter (N2O), NF3, etc., og i tillegg til prosessprosessen Høy renhet hydrogen og høyrent nitrogen og andre store gasser.Argongass brukes i sputteringsprosessen, og sputterfilmgassen er hovedmaterialet for sputtering.For det første kan den filmdannende gassen ikke reageres kjemisk med målet, og den best egnede gassen er en inert gass.En stor mengde spesialgass vil også bli brukt i etseprosessen, og den elektroniske spesialgassen er for det meste brannfarlig og eksplosiv, og den svært giftig gass, så kravene til gassveien er høye.Wofly Technology spesialiserer seg på design og installasjon av transportsystemer med høy renhet.
Spesielle gasser brukes hovedsakelig i LCD-industrien til filmdannelse og tørkeprosesser.Den flytende krystallskjermen har et bredt utvalg av klassifiseringer, der TFT-LCD er rask, bildekvaliteten er høy, kostnadene reduseres gradvis, og den mest brukte LCD-teknologien brukes for tiden.Produksjonsprosessen til TFT-LCD-panelet kan deles inn i tre hovedfaser: frontgruppen, mediumorientert bokseprosess (CELL) og en post-stage modulmonteringsprosess.Den elektroniske spesialgassen påføres hovedsakelig filmdannelses- og tørketrinnet i den forrige array-prosessen, og en SiNX ikke-metallfilm og en gate, source, dren og ITO er avsatt henholdsvis, og en metallfilm som en port, kilde, drenering og ITO.
Nitrogen / oksygen / argon rustfritt stål 316 semi-automatisk omskifter gasskontrollpanel
Innleggstid: 13-jan-2022